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硅片超聲波清洗機硅片擴散超聲波清洗機該設備用于晶圓片擴散、蒸發(fā)、CAV生產(chǎn)前的清洗處理。該機共有六種清洗方式可供選擇,清洗程序為純水清洗、膽堿清洗、冷熱純水沖洗、酸洗(HF)、純水清洗
硅片甩干機,LCS系列立式旋轉沖洗甩干機本機是主要應用于太陽能電池和半導體硅片等的沖洗甩干工藝環(huán)節(jié),具有容量大、效率高的特點。
LXS系列旋轉沖洗甩干機該產(chǎn)品主要用于桂圓片、藍寶石片、俺模板、太陽能電池等其他類似材料的高潔凈度沖洗甩干。具有單腔、雙腔兩種結構(也可按用戶要求配置)。
LC系列單槽式超聲波清洗機設計美觀大方,不銹鋼結構、操作簡便,主要應用于電子(硅片、晶片、磁性材料等)、機械(油泵、油嘴、活塞、活塞環(huán)、模具、連桿等)、輕工(光學玻璃、眼鏡架、五金元件、金銀首飾等)、醫(yī)藥(大輸液瓶、西林瓶、口服液瓶、濾芯、膠塞等)、化工(化纖噴絲板、噴絲頭等)、超硬材料(金剛石篩、金剛石微粉)等行業(yè)小批量的清洗。硅材料清洗定制化服務,適應各種生產(chǎn)需求 自動配液模式 全自動操作方式
濕法腐蝕清洗系統(tǒng)廣泛應用于Ic、MEMS、LED、PV、電力電子、半導體材料等行業(yè) 標準配置:高純進口板材
晶片腐蝕清洗機本機是根據(jù)石英晶片生產(chǎn)企業(yè)設計的一款高性能晶片腐蝕清洗設備,雙槽式設計,外殼采用電器控制元件。
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